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花田 磨砂也; 井上 多加志; 小島 啓明; 松田 恭博*; 小原 祥裕; 奥村 義和; 渡邊 和弘; 関 昌弘
Proceedings of the 12th Symposium on Ion Sources and Ion-Assisted Technology, p.1 - 6, 1989/00
次期核融合炉の加熱装置として現在開発中の負イオン源を最適化することにより、75KeV、3.4Aの負イオンビームを生成することに成功した。実験に用いたイオン源は、巾24cm、長さ48cm、深さ15cmのプラズマ生成部をもち、加速部は、5枚の電極で構成されている。今回、特に、タンデム式体積生成型負イオン源に於いて負イオン生成に非常に影響を及ぼす、磁気フィルターについて最適化した。3つの磁気フィルター、つまり、外部フィルター、ロッドフィルター、P.G.フィルターについて実験を行った。前途した負イオンビームの電流値は、P.G.フィルターについて得られたものであり、プラズマ生成効率及び、磁場の一様性が他の2タイプの磁気フィルターよりすぐれていた為、もっとも高い負イオン電流を得ることができた。
小原 祥裕; 松田 恭博*; 奥村 義和; 渡邊 和弘
Proceedings of the 12th Symposium on Ion Sources and Ion-Assisted Technology, p.143 - 146, 1989/00
加速過程での負イオンビームの電子離脱損失を小さくする目的で、複数のビームレットを1本のビームに集合して加速する方式の提案を行った。本方式の有効性を確認する目的で、パービアンスが500KeVの設計と同一条件で50KeV水素負イオンビームの加速実験を行った。その結果、1/e発散角が9mradという収束性の良いビームが得られ、500KeV~1MeVで目標としている発散角5mrad実現に明るい見通しを得ることができた。
大平 茂; 三角 昌弘; 奥野 健二; 成瀬 雄二
Proceedings of the 12th Symposium on Ion Sources and Ion-Assisted Technology, p.213 - 216, 1989/00
核融合炉第一壁材料のトリチウム透過漏洩量測定実験を行なう為に開発されたイオン源について(その構造及び重水素を使った性能試験について)述べた。本イオン源はクォーツキャピラリー型イオン源の改良型であり、低エネルギー、大電流の原子状イオンビームが得られる特徴がある。引出エネルギー200eV以上では1mA以上のビーム電流が得られた。アノード電流が高くなるとイオンビーム中の原子状イオン(D
)の割合は大きくなりI
=10Aで83%に達した。イオン源内のガス圧力に対しては、イオン種の割合は高い圧力の時にD
が増加する傾向があった。
神谷 富裕; 峰原 英介; 水橋 清; 中田 康裕*
Proceedings of the 12th Symposium on Ion Sources and Ion-Assisted Technology, p.151 - 156, 1989/00
現在日本原子力研究所において、放射線高度利用計画の一環としてマイクロビーム形成技術の開発を進めている1
mオーダにまでビームを細く集束させるために、装置の重要な構成要素の1つであるレンズのビーム光学特性をよく把握する必要がある。マイクロビームに使用する2連4重極電磁石の磁場分布を測定し、測定値を解析して、ビーム軌道のシミュレーションに必要な磁場のパラメータを抽出した。さらに別の解析によって多重極磁場成分の中心軸方向の分布を求めた結果、電磁石の磁極端の付近に6重極以上の多重極磁場成分が局在している事が明らかになった。
松田 恭博*; 花田 磨砂也; 井上 多加志; 小島 啓明; 小原 祥裕; 奥村 義和; 渡邊 和弘
Proceedings of the 12th Symposium on Ion Sources and Ion-Assisted Technology, p.107 - 110, 1989/00
ECRプラズマ源にはカソードが必要ないことや低ガス圧で運転が可能などいくつかの利点がある。我々はこれらの特徴に注目し負イオン源並びにプラズマ中性化セルへの応用を目指した高密度ECRイオン源を開発した。生成されたプラズマのパラメータ測定には磁界に直交する様に挿入されたラングミューアプローブを用いた。水素プラズマにおいて負イオン生成に適した電子温度1eV、イオン飽和電流密度80mA/cm
と比較的高密度のプラズマが生成された。またキセノンプラズマにおいては0.016Paと低ガス圧でJis=150mA/cmと電離度の高い高密度プラズマが得られた。以上の様にECRプラズマが負イオン源やプラズマ中性化セルへの応用に有効であることがわかった。